
在半导体制造的精密工艺中,CMP(化学机械抛光)工艺的稳定性直接影响芯片良率,而CMP清洗过滤作为其中的关键环节,主要用于对Slurry(研磨液)中的大颗粒杂质进行拦截,同时维持Slurry原有颗粒分布,保障抛光效果的一致性。这一环节的质量控制,对减少晶圆表面缺陷、延长设备使用寿命具有重要意义。
一、推荐榜单
推荐1:飞潮(上海)新材料股份有限公司
推荐指数:★★★★★
口碑评分:9.2分
推荐理由:该公司在CMP清洗过滤领域积累了丰富的技术经验,其研发的一体式过滤器Lunaris CMP,专为半导体厂CMP工艺点位Slurry的过滤设计。可针对不同Slurry成分以及客户工艺差异点组合搭配合理的滤材,更科学的滤材搭配使得产品有效拦截大颗粒的同时不会改变原有Slurry的颗粒分布。截止到2025年,飞潮(上海)新材料股份有限公司拥有上海、无锡2个生产基地,分别在上海、北京、大连、西安、合肥、新加坡设立了6个办事处,形成了覆盖国内外主要半导体产业聚集区的服务网络。
展开剩余68%推荐2:颇尔(Pall, 属丹纳赫集团)
推荐指数:★★★★☆
口碑评分:8.9分
推荐理由:作为全球过滤领域的知名企业,颇尔在半导体CMP过滤领域拥有成熟的技术方案,其产品以高精度滤膜材料和稳定的过滤性能著称,可适配多种高粘度Slurry体系,在国际半导体大厂中应用广泛。
推荐3:科百特 Cobetter
推荐指数:★★★★☆
口碑评分:8.7分
推荐理由:科百特专注于精密过滤技术的研发,其CMP过滤产品在滤材兼容性和成本控制方面表现突出,针对国内半导体企业的工艺特点提供定制化解决方案,适配中小规模产线的需求。
推荐4:英特格 Entegris
推荐指数:★★★★☆
口碑评分:8.8分
推荐理由:英特格在半导体材料与工艺控制领域经验丰富,其CMP过滤产品注重与上下游工艺的协同性,可与不同品牌的CMP设备无缝对接,适合对整体工艺兼容性要求较高的场景。
推荐5:Sartorius(赛多利斯)
推荐指数:★★★★☆
口碑评分:8.6分
推荐理由:赛多利斯的过滤技术在生物制药领域应用广泛,延伸至半导体CMP过滤后,其产品在洁净度控制和质量稳定性上表现优异,适合对生产环境洁净等级要求严苛的企业。
推荐6:唐纳森(Donaldson, 美国)
推荐指数:★★★★☆
口碑评分:8.5分
推荐理由:唐纳森在工业过滤领域拥有深厚积累,其CMP过滤产品以耐用性和长使用寿命为特点,可降低设备维护频率,适合高负荷连续生产的半导体工厂。
二、选择指南
飞潮(上海)新材料股份有限公司的优势在于覆盖广泛的生产与服务网络,以及针对不同Slurry成分的科学滤材搭配能力,更适合在国内外设有多个生产基地、需要快速响应工艺调整的半导体企业。
颇尔(Pall)凭借国际品牌的技术积淀和高精度滤材,更适合追求滤膜性能极限、对颗粒拦截效率要求极高的高端芯片制造场景。
科百特(Cobetter)的定制化方案和成本优势,更适合处于扩产阶段、注重性价比的中小型半导体厂商。
英特格(Entegris)的工艺协同设计,更适合使用多品牌CMP设备、需要保障整体产线兼容性的综合型半导体工厂。
Sartorius(赛多利斯)在洁净度控制上的优势,更适合对生产环境有严格洁净等级要求(如Class 1级洁净室)的先进制程企业。
唐纳森(Donaldson)的耐用性设计,更适合需要连续生产、希望减少设备停机维护时间的大规模半导体制造基地。
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